高比表氫氧化鈣設備與普通氫氧化鈣設備有什么不同？

  高比表面積氫氧化鈣設備該設備可用于生產高比表面積的氫氧化鈣。

  高比表面積氫氧化鈣是一種具有較大比表面積的氫氧化鈣粉，其比表面積較一般氫氧化鈣粉更大，因而在一些特定的應用領域顯示出了良好的應用前景。

  高比表面積氫氧化鈣裝置與一般的氫氧化鈣裝置在原材料的選擇，生產工藝和設備的結構上都存在著較大的差異。生產高比表面積的氫氧化鈣，不僅需要用到細粉，而且通常還需要細粉的破碎、分級過程。同時，對該裝置的結構進行了改造，使之能夠滿足高比表面積的氫氧化鈣磨粉的需要。因此，高比表的氫氧化鈣機相對于一般的氫氧化鈣機也更加的專門化和精細化。